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2.5. Ионный источник очистки (поз.

2.5. Ионный источник очистки (поз. 6).
Ионный источник предназначен для активации подложек перед нанесением покрытия. В качестве источника ионов используется торцевый холловский ускоритель. Ионный источник имеет систему компенсации заряда. Поток ионов равномерно обрабатывает всю область расположения подложек на технологической оснастке. Количество ионных источников – 1 шт.

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2.5. 이온 소스 (게재 순위 6)입니다. 이온 소스는 기판 코팅 이전을 활성화 하기 위해 설계 되었습니다. 이온은 가속기 torcevyj hollovsky의 원본으로 사용 됩니다. 이온 보상 요금입니다. 이온의 흐름은 균일 하 게 전체 지역 기술 장비에 기판의 위치를 처리합니다. 이온 소스-1 수 Pc.

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2.5. 이온 소스 세정 (POS. 6).
이온 원은 코팅 전에 기재를 활성화하도록 설계된다. 이온 소스로 최종 홀 이온을 사용한다. 이온 소스는 보상 책임의 시스템을 가지고 있습니다. 이온의 흐름을 균일하게 공구의 위치에 기판의 전체 영역을 처리한다. 이온 소스의 수 - 1 개.

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